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真空炉の簡単な説明

Date:Mar 13, 2019

真空炉は、炉キャビティの特定の空間内の真空システム(真空ポンプ、真空測定装置、真空バルブおよび他の構成要素が注意深く組み立てられている)であり、炉キャビティの一部が排出されるようにする。炉の空洞は標準大気圧より低い。 炉室内の空間は真空状態であり、真空炉である。 真空環境で加熱するための機器 パイプは、金属ケーシングまたは石英ガラスカバーによって密閉された炉内で高真空ポンプシステムに接続されている。 炉内真空度は133×(10-2〜10-4)Paに達する。 炉加熱システムは、抵抗炉ワイヤ(タングステンワイヤなど)によって直接加熱することも、高周波誘導によって加熱することもできる。 最高温度は約3000℃に達することがあります。 主にセラミック焼成、真空製錬、脱ガス、電気真空部品の焼鈍、金属部品のろう付け、セラミック - 金属シールに使用されます。

適用範囲:現在、ほとんどの真空熱処理炉の作業真空度は1.33〜1.33×10ˉ³Paです。 真空熱処理は、焼入れ、焼鈍、焼戻し、浸炭、窒化、ガス焼入れ、油焼入れ、硝酸焼入れ、水焼入れなど、焼入れ、真空ろう付け、焼結、表面処理などのほとんどすべての熱処理プロセスを達成することができる。真空熱処理炉は、高い熱効率を有し、急速な温度上昇および温度降下を実現することができ、無酸化、無脱炭、無浸炭を実現することができ、ワークピースの表面上のリン片を除去することができ、そして脱脂の機能を有する。これにより、表面光沢精製の効果が達成される。

Vacuum Furnace

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